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离子清洗机全面介绍

变宝网09月18日讯

离子清洗机,又名等离子清洗机,是通过等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的清洗设备。下面小编带大家了解下离子清洗机。

一、离子清洗机分类性能

反应类型分类

等离子体与固体表面发生反应可以分为物理反应(离子轰击)和化学反应。

物理反应机制是活性粒子轰击待清洗表面,使污染物脱离表面最终被真空泵吸走。物理反应为主的等离子体清洗,也叫做溅射腐蚀(SPE)或离子铣(IM),其优点:本身不发生化学反应,清洁表面不会留下任何的氧化物,可以保持被清洗物的化学纯净性。缺点:对表面产生了很大的损害,会产生很大的热效应,对被清洗表面的各种不同物质选择性差,腐蚀速度较低。典型的等离子体物理清洗工艺是氩气等离子体清洗。

离子清洗机全面介绍

化学反应机制是各种活性的粒子和污染物反应生成易挥发性的物质,再由真空泵吸走挥发性的物质。

化学反应为主的等离子体清洗的优点:清洗速度较高、选择性好、对清除有机污染物比较有效,缺点:表面产生氧化物。典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼,容易与碳氢化合物发生反应,产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物,去除表面的污染物。

激发频率分类

等离子态的密度和激发频率的关系式:nc=1.2425×108v2,其中nc为等离子态密度(cm-3),v为激发频(Hz)。等离子体激发频率分为:频率为40kHz的等离子体为超声等离子体,13.56MHz的等离子体为射频等离子体,2.45GHz的等离子体为微波等离子体。

超声等离子体的自偏压为1000V左右,射频等离子体的自偏压为250V左右,微波等离子体的自偏压很低,只有几十伏。超声等离子体发生的反应为物理反应,射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应,微波等离子体发生的反应为化学反应。

二、离子清洗机原理

无机气体被激发为等离子态→气相物质被吸附在固体表面→被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子→产物分子解析形成气相→反应残余物脱离表面。

三、离子清洗机特点

1、离子清洗机不分处理对象的基材类型,均可进行处理,如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。

2、容易采用数控技术,自动化程度高。

3、具有高精度的控制装置,时间控制的精度很高。

4、正确的等离子体清洗不会在表面产生损伤层,表面质得到保证。

5、在真空中进行,不污染环境,保证清洗表面不被二次污染。

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